光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。这些涂层可以显着改变光学元件的达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。光学涂层可以直接应用于光学元件的表面、以调整其反射率等。除此外可以利用材料的特性与多个膜层的配合作用可以达到很多特殊效果。
常见的涂层类型包括增透膜、宽带增透膜、介质高反射膜、金属反射膜、金属增强膜、金属导电膜、透明导电膜、前截止膜、后截止膜、偏振膜 防水膜，高反 防水膜等。膜层可根据产品需要选择。常用的涂层材料有氟化镁、二氧化硅、氧化锆等。
米格实验室光学涂层服务团队拥有20多年的光学涂层实践经验，为国内众多知名企业提供技术解决方案。我们可以为您提供：
光学镜头冷加工技术及能力： 适用于投影曝光机，仪器仪表设备镜头等
光学涂层及试验评价：各种高反、增透、滤光等薄膜设计及性能试验。
光学膜分析：可逆膜结构分析与实现。
光学涂层技术指导：可提供技术咨询服务和技术指导。
镀膜设备：电子束蒸发、热蒸发。
最大样品尺寸：190*250。
涂层基材类型：各种光学玻璃。
镀膜材料：氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧化、氧ITO、二氧化硅、二氧化硅、二氧化钽、二氧化铌、二氧化钛、金、银、铜、铬、铬镍合金、铝、钛。
温度范围：20-300℃。
最大厚度：150mm。
涂层类型：增透膜、宽带增透膜、介质高反射膜、金属反射膜、金属增强膜、金属导电膜、透明导电膜、前截止膜、后截止膜、偏振膜 防水膜，高反 防水膜等。
其它内容：透镜、棱镜、窗片冷加工、胶合、中红外加工等。