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磁光克尔效应测量系统JMTS-816的技术参数

磁光克尔效应装置是基于磁光效应原理设计的超高灵敏度磁强度计,是研究磁膜和磁微结构的理想测量工具。旋转磁光克尔效应(RotMOKE)它是一种类似于转矩测量各向异性的实验方法,在磁光克尔效应测量的基础上,可以定量获得样品的磁各向异性值。但由于电磁铁磁场尺寸的限制,只适用于测量膜表面磁各向异性易轴,矫顽场不大的磁膜材料。可结合源表测量样品的磁输运性能。RotMOKE具有以下特点:测量精度高、测量时间短;非接触式测量是无损测量;测量范围为一点,可测量同一样品不同部位的磁化;可产生光滑稳定的控制磁场,磁场光滑过零。

磁纳米技术、自旋电子学、磁膜、磁随机存储器等广泛应用GMR/TMR等磁学领域。

1·光学平台:

刚性隔震,不锈钢贴面,1200*800*800mm,M6螺孔,25mm阵距,150mm带脚轮的台板厚度。台面平整度0.1/1000mm,平台载荷300Kg,固有频率≤2.5Hz,阻尼比0.12~0.13R/S。

2·矢量电磁铁:

锦正茂二维矢量电磁铁,每维大磁场0.26T,极面直径30mm,磁场间隙40mm,中心10mm方体内均匀区1%。

3·电磁铁电源:

锦正茂单相双极性恒流,大10A,小分辨率0.1mA,稳定性50ppm/h,对应小分辨率0.1Gauss。

4·激光器:Newport 632.8nm,2mW,稳定性2%,噪音<1% rms(30Hz~10MHz),聚焦透镜光斑小于10μm的圆。

5·偏移/偏移器:格兰-汤普森棱镜,外径25.4mm,通光孔径10mm,消光比<5*10^-5,角度范围14~16°,波长范围350~2300nm。

6·聚焦透镜:K设计波长633nm,外径25.4mm,焦距150mm,焦距误差±0.5%,面精X方向λ/4,Y方向λ/2。

7·四分之一波:25.4mm,波长632.8nm,投射波前畸变λ/8,相位延迟精度λ/100。

8·光电传感器:15mm2感应面积,0.21A/W响应性,暗电流1nA,对430~900nm波长光敏感,分流电阻200Mohm。

9·电流放大器:1pA/V大增益,1MHz带宽,大输入±5mA,大输出±5V,输出增益精度±0.05%

10·高精度电压表:六位半,小分辨率0.1μV,90天精度达到0.002%,四位半精度快2000 readings/second

11·手动位移和电动旋转样品杆: XYZ三维位移,XY行程25mm,Z行程13mm,样品座直径为11mm有电接头的圆。

12·计算机:联想商用,集成多串口卡。

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