酞菁具有特殊的分子和电子结构，光学非线性系数大，光电响应时间短，化学稳定性和热稳定性好，是一种发展前景广阔的有机非线性光学材料。1992年，美国学者Shirkt77)四波混频DFWM)双层稀上酞菁配合物技术Ln(Pc),及其配合物阴离子[Ln(Pc)2](Ln-Yb，Sc，Y,Nd，Eu，Gd，Lu)对三阶非线性光学性质进行了研究，发现它们呈现出迄今为止研究过的所有三阶非线性光学性质，1064nm其超级极化率比其它酞菁基衍生物高一个数量级。
分为器件和分子材料
在分子材料领域，研究人员通过各种制备技术将酞菁化合物用于场效应晶体管、有机发光二极管、光存储器和气体传感器的应用研究，发现酞菁作为p型半导体，具有延长设备寿命、降低能耗、提高设备稳定性等优点 四(2-氯丙酰胺基)氯代酞菁[InClPc(NHCOCHClCH3)4] 四磺酸钴和物阴离子(CoPcTS4-) 酞菁氧钛(TiOPc)薄膜 红区荧光探针四磺基铝酞菁(AlS4Pc) 颜料酞菁蓝(CuPc) 八羧酸酞菁铝配合物(AlPc(COOH)8) 丁基萘酞菁氧钒四叔((t-Bu)_4 NcVO)化合物 取代4-异丙苯基苯氧基酞PbPc(CP)4 镁酞菁四氨基(MgPc) 二、三-二辛基酞菁氧钒(二、三-C8OVPc) 2.16(17)-二辛基酞菁氧钒(dp-C8OVPc)
小编ssl2022.2.15