光刻胶有 G 线光刻胶、I 线光刻胶、KrF 光刻胶和 ArF 光刻胶四种
半导体光刻胶根据不同的曝光源波长进行分类。紫外全谱(300~4500)有六种常用的曝光源nm）、 G 线（436nm）、 I 线（365nm）、深紫外（DUV，包括 248nm 和 193nm）和极紫外（EUV），相对于每个曝光波 长光刻胶也应运而生。在不同的光刻胶中，根据不同的需要，成膜树脂、光引发剂、添加剂等关键配方成分 光刻胶也有不同的性能，从而满足相应的需求。
目前主要有光刻胶 G 线光刻胶、I 线光刻胶、KrF 光刻胶和 ArF 光刻胶有四种，其基本信息如下所示。
半导体光刻胶类型：
为满足更高集成度更精密的集成电路制造，必须采用更短波长的光源，半导体光刻胶也需做出适应性改变。 随着 IC 随着集成度的提高，世界集成电路的工艺水平已经从微米、亚微米、深亚微米进入纳米阶段。光的波长对图形的精细转移起着至关重要的作用，因为它会影响光敏材料的分辨率。分辨率越高，波长越短。为了满足集成电路线宽度不断缩小的要求，光刻胶的波长从紫外线宽度到 G 线(436nm)→I 线(365nm)→KrF(248nm)→ ArF(193nm)→F2(157nm)→EUV（<13.5nm）通过分辨率通过分辨率不断提高。
I 线光刻胶和 ArF 光刻胶市场仍将保持增长。根据 SEMI 数据，2018 全球半导体光刻胶市场，G 线&I 线、KrF、ArF&液浸 ArF 三种光刻胶分别占三分天下的比例 24%，22%，42%。其中，ArF/液浸 ArF 光刻胶主 对应当前先进 IC 制程。随着双/多重曝光技术的使用，光刻胶使用次数增加，ArF 光刻胶市场需求将加快扩大。在 EUV 在技术成熟之前，ArF 光刻胶仍将是主流。未来，功率半导体、传感器、LED 继续扩大市场，I 线 市场将继续增长。而随着精细化需求增加，I 光刻胶将被子 KrF 光刻胶替代，KrF 光刻胶市场需求将继续增加。
高端光刻胶迫切需要国产化。目前正在市场上使用。 KrF 和 ArF 包括陶在内的日本和美国企业基本垄断了光刻胶 氏化学、JSR、信越化工、东京应化等企业。目前 KrF 和 ArF 上海新阳、南大光电、 晶瑞股份等光刻胶龙头已开始通过融资或合作的方式加两种光刻胶的研发，高端光刻胶的投产即将到来。
LCD 光刻胶
在 LCD 在面板制造领域，光刻胶也是一种极其关键的材料。根据用户的不同，可分为 RGB 胶(彩胶)，BM 胶(黑胶)，OC 胶、PS 胶、TFT 胶水等。光刻工艺包括表面准备、涂层光刻胶、前烘、对准曝光、显影、坚膜、 为了实现图形的复制和转移，制造特定的微结构，如图形检查、刻蚀、剥离和最终检查。
下面是彩色的 LCD 解释面板的显示原理 LCD 光刻胶在 LCD 如何应用屏幕？
由于 LCD 是非主动发光器件，因此其颜色显示必须由背光系统或外部环境光驱动 该装置与控制器形成灰阶显示，然后使用彩色过滤器产生红色、绿色和蓝色，并根据混合原理形成彩色显示屏。然而，彩色过滤器的生产必须由光刻胶完成。
彩色滤光片由玻璃基板、黑色矩阵、颜色层、保护层和 ITO 导电膜构成。颜色层（Color）主要由 三原色光刻胶是彩色滤光片的主要部分，分别通过涂布、曝光和显影形成。黑色矩阵（Black Matrix，简称 BM） 它是一种防止漏光的黑色光刻胶模型。光刻胶的质量将直接影响滤光片的显色性能。
除彩色光刻胶和黑色光刻胶外，TFT Array正性光刻胶也非常重要，其主要用于TFT-LCD制程中的Array 段，主导 TFT 图形转移的分析性、热稳定性、剥膜性、耐蚀刻性均优于负光刻胶。
目前 LCD 日韩公司基本占据了光刻胶市场。平板显示器领域，TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示器) 彩色滤光片是市场的主流 TFT-LCD 实现彩色显示的关键设备占面板成本 15%左右；彩色光刻胶和黑色光 刻胶是制备彩色滤光片的核心材料，占彩色滤光片的成本 27%左右。TFT-LCD 光刻胶技术壁垒高，市场基础高 本被如 JSR、日韩公司占有住友化学、三菱化学等，占有率可达 90%。
六氟二酐（6FDA) 1107-00-2
9-双(3-氟-4-氨基苯基) (FFDA) 127926-65-2
9-双(4-氨基苯基) （FDA) 15499-84-0
四、二氨基-2 (M-Tolidine) 84-67-3
2.双(3-氨基-4-羟基苯基) 六氟丙烷 83558-87-6
1、双(3-氨基苯氧基)苯 (APB) 10526-07-5
4、双(4-氨苯氧基)联苯(BAPB) 13080-85-8
1、双(4-氨苯氧基)苯 2479-46-1
四、二氨基联苯-2 17557-76-5
2、双(三氟甲基)-4 344-48-9
ODA 四、二氨基二苯醚 101-80-4
BAPP 2,2'-双[4-(4-氨基苯氧基苯基)]丙烷 13080-86-9
TPE-Q 1、双(4-氨基苯氧基苯 3491/12/1
BPADA 双酚A型二醚二酐 38103-06-9
BTDA 三、四、四 2421-28-5
BPDA 三、四、四 2420-87-3
CBDA 环丁烷四甲酸二酐 4415-87-6
DABA 3.5-2氨基苯甲酸 535-87-5
TFMB 二、二 341-58-2
A-BPDA 二、三、四 36978-41-3
BOAFL 9-2[2-3-环氧丙氧基苯基] 47758-37-2
TCA 四氢-1H-5.9-甲烷吡喃并[3，4-d]恶英-1，3，6H)-四酮 6053-46-9
ODPA 四、氧双邻苯二甲酸酐 1823-59-2
A-ODPA 三、氧双邻苯二甲酸酐 50662-95-8
HFBAPP 2、2-双[4-(4-氨基苯氧基)苯基-1、1、3、3-6氟丙烷 69563-88-8
4-溴-N-苯基咔唑 1097884-37-1
3.6-2溴-9-(2-乙基己基)-9h-咔唑 173063-52-0
N-(2-萘基)-3-溴卡唑 934545-80-9
1-溴-N-苯基咔唑 1333002-37-1
3.二叔丁基咔唑 37500-95-1
3,6-二溴咔唑 6825-20-3
1-溴咔唑 16807-11-7
2-溴咔唑 3652-90-2
2-氯咔唑 10537-08-3
2-羟基咔唑 86-79-3
3-溴咔唑 1592-95-6
3,6-二苯基-9H-咔唑 56525-79-2
4-溴-9H-咔唑 3652-89-9
3-苯基-9H-咔唑 103012-26-6
11,12-二氢-12,12-二甲基茚并[1,2-a]咔唑 1329054-41-2
9-(4-溴苯基)咔唑 57102-42-8
10-溴-7H-苯并[c]咔唑 1698-16-4
9-(3-溴苯基)-9H-咔唑 185112-61-2
9-(2-溴苯基)-9H-咔唑 902518-11-0
3-溴-N-苯基咔唑 1153-85-1
3,6-二溴-9-苯基咔唑 57103-20-5
3-碘-9-苯基咔唑 502161-03-7
9-(1-萘基)-3-溴咔唑 934545-83-2
3-(4-溴苯基)-9-苯基-9H-咔唑 1028647-93-9
2-溴-9-苯基-9H-咔唑 94994-62-4
2-(2-氯苯基)-1H-苯并咪唑 3574-96-7
3,3'-联咔唑 1984-49-2
3,9'-联咔唑 18628-07-4
吲哚并[3,2-b]咔唑 241-55-4
吲哚并[3,2-b]咔唑 6336-32-9
5,11-二氢-11,11-二甲基茚并[1,2-b]咔唑 1260228-95-2
5,7-二氢-7,7-二甲基-茚并[2,1-b]咔唑 1257220-47-5
9-(4'-溴联苯-4-基)-9H-咔唑 212385-73-4
4,4'-二(9-咔唑)联苯 58328-31-7
5,12-二氢-12,12-二甲基茚并[1,2-c]咔唑 1346645-54-2
5,7-二氢-吲哚并[2,3-b]咔唑 111296-90-3
吲哚并[2,3-a]咔唑 60511-85-5
9H-咔唑-3-硼酸频哪醇酯 855738-89-5
9-(4-苯基苯基)咔唑 6299-16-7
14H-苯并[c]苯并[4,5]噻吩并[2,3-a]咔唑 1313395-18-4
9-(2-萘基)-3,6-二溴咔唑 1221237-83-7
2,7-二溴咔唑 36630-39-2
2-苯基-9H-咔唑 88590-00-5
咔唑 86-74-8
9H-咔唑-3,6-二甲腈 57103-03-4
3,6-二碘咔唑 57103-02-3
3-氰基咔唑 57102-93-9
9,9'-二([1,1'-联苯]-4-基)-3,3'-联-9H-咔唑 57102-51-9
3-氯咔唑 2732-25-4
N-(3-联苯基)-N-(4-联苯基)-3,3-双咔唑 1643479-47-3
5,7-二氢-5-苯基吲哚[2,3-b]咔唑 1448296-00-1
9'-苯基-9H,9H'-3,3'-咔唑 1060735-14-9
3,6-二乙氧基咔唑 1707264-12-7
9-苯基-9H,9H-3,3-咔唑 10607435-14-9
9-乙烯卡唑 1484-13-5
wyf 01.26