集成电路工艺7nm 5nm 2nm

IBM集成电路贡献：

2015年第一个人类7nm制程芯片；

2017年第一个人类5nm制程芯片；

2021年人类第一次nm制程芯片。

关键技术：

7nm以上，FinFET结构解决漏电流问题，但是7nm是FinFET结构极限；

7nm以下，GAA结构能有效解决漏电流问题，5nm和2nm都是GAA架构的实现例子。