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ESD(静电释放)下半部分

ESD(静电释放)下半部分

1、顶层(layout)设计角度

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以上是最简单的四端模型电路,有电源VDD,有地VSS,有输入input,有输出output(上图未画出,可视为两个反相器的输出)。

考虑任何两个PAD都有可能发生ESD因此,我们必须注意情况layout布局。

ESD如输入PAD到VSS地面会形成很大的排放电流,但我们不同metal层次的层次和厚度会影响排放电流的大小,如metal1的10um,只能走峰值电流100mA(数据纯属假设,仅以此为例),您的排放电流为200mA,那你的芯片一打ESD,一股你的金属连线无法承受的电流经过,那你的结局就是从芯片上看,你的金属连线烧毁了,ESD布局失败。因此,所有泄漏电流支路的连接都应使用较厚的顶层metal因为顶层,连接metal排放电流能力最强。因此,所有泄漏电流支路的连接都应使用较厚的顶层metal因为顶层,连接metal排放电流能力最强。ESD尽量放在里面PAD旁边,可以达到最小的线路阻抗、最快的排放电流路径和省顶层metal这是最基本的设计原则,对电路只有好处,没有坏处。

假设输入PAD当内部电路是栅极时,我们必须注意一个ESD如上图所示,二级保护的输入只有一个ESD到VSS保护显然是不够的。我们还需要限流电阻和二次电阻ESD保护,这个问题稍后会解释。

还需要输入到电源ESD假设输入如上图所示PAD为高,对电源VDD打ESD,那么排放电流路径首先从下输入ESD流向地面,然后从地面流向电源ESD,需要做的是地面足够厚,否则无处发泄的排放电流首先会烧坏地线,然后可能会烧坏内部地面到电源之间的电路。

做高速接口电路时,一定要注意接口ESD寄生电容带来信号delay影响,选择ESD更关键和谨慎。

不要增加mask,因为有时候是针对同一套的mask而言,做出来的ESD性能可能不太好,好ESD可能需要别的mask,但这显然是不经济的,毕竟一层mask真的很贵。

要注意latchup的影响,latchup后面会有专门的章节,和ESD可靠性的两大主要内容。

适当使用功率管自我保护可以减少外部ESD节省整体面积。

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2、 底层设计

首先,让我们看看哪些设备可以作为或帮助ESD的使用?

电阻本身不是一个ESD但是电阻可以帮助设备ESD完成一些特定的功能。**电阻具有限流作用,**合理放置可以改善一些电路ESD保护能力。电阻是一个最最简单的器件,但是在ESD我们经常可以在保护中看到它。例如I/O脚内电路是MOS对于栅极,我们需要放置几K电阻。它的优点是当端口ESD能量大的时候,可以限流降压。首先解释为什么我们的内部是栅极I/O需要二级ESD保护,**由于栅极是远比源漏或其它端口更敏感的位置,其栅极氧化层很容易被击穿,**所以我们需要第一个ESD下图左侧的设备ESD首先,在能量减弱后,释放部分能量并通过限流电阻R,如果有大电流,内部电流不会太大,R你也可以吃很大的压降,剩下的能量通过右边ESD泄放掉。这是针对有栅极的I/O当然,如果你说其他的话,I/O当然可以用,double protect谁不喜欢,但问题是这会带来面积问题,毕竟一个ESD但是占了很多面积。秉承电阻限流,吃电压的特性,还有一些情况,比如内部某些支路的耐压能力不够时,但是该支路的ESDtrigger然而,如果电压较高,我们也可以使用一些电阻来完成增加电压的任务,前提是不影响电路的正常运行。当然,这是一些粗糙的使用方法。一般来说,修改后的电路没有其他选择。因此,综上所述,电阻不仅可以作为限流器件,还可以作为增加耐压性的器件。

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二极管本质上是最简单的ESD器件。正向时,I与V呈e指数倍关系,**反向时,有一定的反向电流,但当反向电压达到一定电压时,会形成雪崩击穿和齐纳击穿,短时间内产生较大的电流。**这里面有有一个ESD,**大量(能量)电流在短时间内释放!**PN所有向击穿的所有特征ESD设备的必要特性!

为了方便我们以后关于我们的便利BJT,CMOS等ESD对设备的理解,我们将击穿特性统一放在I/V曲线的第一象限,所以PN如下图所示:

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假设I/O对GND打正电压,当I/O当能量达到一定程度时,**雪崩击穿,电流急剧上升,能量从二极管到地释放,**这种基础ESD放电模型是对的ESD最简单最完美的诠释。I/O对GND负压,正好利用二极管正向放电原理,自然释放能量。

那么,我们在实际电路中应该考虑哪些其他因素呢?注意这个问题,这是未来的其他问题ESD还必须遵循设备。

一是不影响电路的正常工作,,否则你没打ESD,我击穿了释放能量,这怎么能正常工作呢?

第二,**电路内部设备的耐压性必须承受ESD击穿电压,**假设内部电路的设备都是VDS最大5V如果我击穿电压是6V,所以在我释放能量之前,你的内管都坏了,所以这不好。

第三,,是否需要放置更多的并联管来共同释放能量,你也可以认为并联减少电阻,这无疑会导致面积,最后权衡利弊,你可以得到你想要的二极管的大小。

如果任何端口都能满足上述三个要求,尺寸合适,那么二极管完美的ESD器件!其他的ESD你不必看设备,但现实是如此残酷。对于一套固定的工艺,应优先考虑各种掺杂物MOS或者BJT所以遵循MOS或者BJT掺杂等特性PN结波形几乎不可能同时满足上述三个要求。因此,很少简单地使用PN结去做ESD器件。

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该方法如上图所示,漏极N,衬底P,源极N,寄生NPN。当漏极具有较大的能量时,会形成较强的电场,对于漏极与衬底之间的反向PN结来说,**当电场达到一定强度时,会发生雪崩击穿(此时drain电压称之为trigger击穿后,会有电流将衬底电压提升到一个PN结正导通电压,然后寄生NPN大量电流从寄生区进入线性放大区NPN导地时,漏极电压下降,这就是snackback折返ESD的过程。**折返到最低的漏极电压称为holding电压。**折返到最低的漏极电压称为holding电压。之后,随着电流的增加,漏极电压会继续上升,直到发生二次击穿和热击穿。

了解方法后,我们再来看看柯先生的一句话:输出后PAD,其输出级大尺寸PMOS及NMOS元件本身可以当作ESD但其布局必须遵守Design Rules中有关ESD布局规定!

有一个信息,输出大管本身可以用作ESD防护使用,这是为什么呢?回答这个问题之前,先引出

3.1 GCNMOS

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**GCNMOS就是在gate和drain之间加一个MOS电容,更小的trigger电压即可触发寄生BJT,完成保护。相对GGNMOS来讲,GCNMOS的触发电压更小,并且另一个优点是,由于gate被couple,有了一个RC的delay,寄生BJT能够更均匀的开启,GGNMOS的基极电阻的差异,通常不能均匀开启;GCNMOS的W需要更大,才能帮助泄放弱导通时产生的热量,否则容易烧毁,也就是扛不住。**这种情况下的GCNMOS是一个典型的击穿型ESD,利用的就是寄生BJT的泄放能力。

讲完这些,大家疑问道,这和。这一点和PIN脚处单独做的GCNMOS不一样,那种情况下GCNMOS是尽量不要开启以保护管子,本质上还是BJT泄放能量。而功率管形成的GCNMOS本身就是靠自己沟道电流泄放能量,所以有的人也称这种为导通型的ESD。以上是笔者自己的看法,如有谬误,请指出。

下面补一张寄生BJT泄放能量的波形图,以助大家更方便地理解。

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3.2 GGNMOS

GGNMOS(上图就是GGNMOS)泄放能量的方式也是使用寄生BJT,所以他的波形图也如上上图中一样。

但是由于我们通常会考虑到ESD能力的问题,,它的cross section的寄生图我觉得如下图所示:

拉宽drain可以增加RD,电阻上面已经说了,可以限流和吃电压,因为在寄生的三极管开之前,这个RD是没有电流的,只有发生雪崩击穿后才会有电流,所以拉宽drain对IV曲线的snack back来讲是没有影响的,但是他会对随后的I/V曲线产生影响,如下图所示:

,针对A和B点来讲,同一个V电压,蓝色的电流显然更高,所以蓝色的曲线显然更容易进入到热击穿从而损毁,从这里可以很明显看出;针对C和B点来讲,**同一个I电流,黑色曲线需要更高的电压才会发生击穿,从这里可以看出电阻的吃电压作用,**这个电阻相当于帮忙吃掉了一部分电压,需要更高的电压才可以损毁ESD。

说到这里,不得不提一下Silicided diffusion技术,他的主要目的**在降低MOS元件在源级与漏极的串联杂散电阻Rd及Rs,主要驱动力是为了更高速的电路服务的,**只有只写寄生的电阻越小,MOS的速度才能提上来,所以在0.35um以下的工艺里面,salicided的技术还是比较普遍的,但是,好巧不巧,你减少这些串联的电阻刚好与我们的ESD的要求不符,如上图中解释,所以又特地为了提高ESD能力,做了一些silicided diffusion block的区域来保证其ESD能力。

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SCR结构的ESD的holding点比较低,trigger点比较高,所以不适合作为power脚接口的ESD。SCR的ESD通常是和二级ESD保护一起配合使用保护I/O脚。SCR也有自己的优点,比如说面积小,因为他不需要像高压ESD把漏极拉宽(SAB)来增加漏端阻抗。

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我觉得最完美的ESD的曲线莫过于下面这章图,只有trigger点,一旦trigger,电流快速上升,完美放电,trigger电压只要略高于端口正常工作的最高电压即可。

但是这种ESD也有其缺点,就是在测试的时候如果端口正常工作电压较高,那么势必会造成其Power过大,很可能在较低电压ESD测试过程中就会失效烧掉。所以,snackback的ESD这个时候就可以发挥作用了,它能够把电压拉到一个较低点,这种Power不会导致芯片烧毁等。

所以,对于端口正常工作电压较低且易受干扰时,我们可以尽可能适配上图类型的ESD(尽管这种ESD仅存在于理想之中),电压较高时,如有必要,可以使用snackback类型的ESD。

整理自微信公众号:芯路 https://www.zhihu.com/column/chip-way

标签: 6esd静电保护芯片二极管

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