俄歇纳米探针(AES)激发电子源入射样品的表面以及。材料纵向深度分析可配备离子溅射枪。AES主要用于分析固体材料表面纳米深度的元素(部分化学态)成分，可观察纳米级形状和成分表征。不仅可以分析原材料（粉末颗粒、片等）的表面组成、晶粒形状、金相分布、晶间晶界偏析，还可以分析颗粒、磨痕、污染、腐蚀、掺杂、吸附等材料表面缺陷，还具有钝化层、涂层、掺杂深度、纳米多层膜结构等深度分析功能。能满足合金、催化、半导体、能源电池、电子设备等材料和产品的分析需求。
入射源：电子束
接收信号:二次电子(用于表面成像)
俄歇电子(用于表示表面元素的化学组成)
信息深度:表面4-50埃
1.在真空环境下，高能电子束在样品表面轰击，可以击发样品中的电子。(用作二次电子成像)
2. 电子空穴形成在电子轨道电子被击出的位置。
3.外部电子轨道的一个电子将填补内部电子孔，释放能量：这种能量将被外部轨道的另一个电子吸收，并克服轨道束缚，脱离样品表面（这种电子称为俄罗斯休息电子）。不同元素或化学状态的俄罗斯休息电子将具有不同的动能。
AES主要用于分析固体材料表面纳米深度的元素(部分化学态)成分，可观察纳米级形状和成分表征。它不仅可以分析原材料（粉末颗粒、材等）的均匀表面组成，还可以分析污染、腐蚀、掺杂、吸附等表面缺陷，还具有钝化层、掺杂深度、纳米多层膜结构等深度分析功能。
PHI710扫描俄歇纳米探针系统为分析人员提供明确的固体材料表面成分识别和表面化学成分分布。"710"独特的设计可以实现全面的成分特征和亚微米表面特征、薄膜结构和表面污染物的二次电子成像。新的高能量分辨率模式可以从俄歇谱和成像中提高710的化学识别能力。
710足当今纳米材料的应用需求，710提供了最高的稳定性AES成像平台、隔声罩、低噪声电子系统、稳定的样品平台和可靠的成像匹配软件AES成像和采谱纳米级形貌特征。
真正的超高真空(UHV)样品在分析过程中不受污染。表面表征清晰准确。测试室的真空由差分离子泵和钛升华泵组成(TSP)实现抽气。肖特基场发射源有独立的抽气系统以确保发射源寿命。系统粗泵采用最新的磁悬浮涡轮分子泵技术，样品引入室抽真空，差异溅射离子枪抽气。连接其他分析技术，如EBSD、FIB、EDS和BSE，标配是多技术测试腔。
710安装在一个带上MicrosoftWindows专用操作系统PC里的PHISmartSoft-AES控制仪器操作软件。所有PHI电子光谱产品包括行业标准的执行PHIMultiPak数据处理软件用于获取最大数据信息。710可以利用互联网和标准通信协议进行远程操作。
从0.1到25kV小特基场发射源稳定，电子系统稳定性更高，闪烁二次电子探测器和数字旋钮用户界面提供高质量的二次电子(SE)成像。全数字化的SE图像实现无闪烁观察，数字存储有利于报告的生成。可优化大电压范围AES成分分析。二次电子成像可达4096X4096像素的分辨率
同轴镜式分析器(CMA)为电子枪提供最全面的俄歇分析能力。CMA提供高灵敏度的俄歇分析，包括详细的元素分布，几乎消除了表面缺陷的影响。初级电子枪和同轴结合垂直安装CMA高精度五轴样品台可分析FIB其他电子枪-分析器配置可以分析加工面、垂直侧壁结构等高度不规则的表面特征。新的高稳定性电子系统和高性能的初级电子枪可以在用户可定义的电压设置下实现高空间分辨率俄歇成像。典型电子束斑尺寸对应1nA束流电压如下图所示。
浮动氩离子枪可以在高或低离子轰击能量下进行表面清洁和深入分析。这一独特的功能使其能够自上而下分析缺陷和薄层结构，保持单分子层的深度分辨率。浮柱离子枪能产生高电流密度，然后在低轰击电压下保证高离子溅射率，最大限度地减少表面损伤。许多绝缘样品可用于荷电中和使俄歇能分析。离子枪的长期稳定性和溅射率的离子枪的长期稳定性和溅射率的可重复性。
计算机驱动的全自动五轴样品台可提供一个稳定的分析平台有高度的准确性和重现性。X和Y的±25毫米的平移可以分析50毫米样品的表面而不旋转(0倾斜0°)。样品表面的微观特征可以定位和分析常中心旋转功能FIB加工面(用于离子刻蚀和分析)。Z可平移20mm和0mm°至60°倾斜(使用60mm样品时倾斜不超过50mm°)。计算机可以存储多个样品位置，实现自动化和无人值守分析。
隔声罩和隔声器提高了成像和分析的稳定性。隔声罩降低了声压级(SPL)真空系统周围的频率范围为30分贝Hz到5kHz，并稳定其温度，以减少图像漂移。振动隔离器减少了地板振动SE影响图像和小区域分析。
六种样品放置台可供选择
分析器的能量分辨率可以通过改进样品平台、电子系统和仪器控制软件不断调整。最佳分析器能量分辨率与俄罗斯歇动能的对应关系如下图所示：
这种新的高能量分辨率可以提高AES在图谱和成像中对，同时，带同轴电子源仍保持不变CMA采集数据的优点：灵敏度高，几乎不受样品表面形状的影响。HR样品托的最大尺寸是12mmx12mm，2.5mm样品位于样品托中轴直径1.0mm最佳能量分辨率可以在范围内获得。
本选择可用于原位冲击冶金样品断裂，并提供上述样品放置功能。在室温下或冷却液氮杜瓦瓶<-100℃断裂样品。
在真空或惰性气体环境或惰性气体环境下从另一个设备或手套箱转移样品。传送管可容纳标准25mm直径样品支架。带法兰接口抽真空或与惰性气体连接。
可机可以安装在进样室的样品支架上收集数字光学图像。当样品进入分析室时，光学图像可用于导航样品分析位置。当样品传输管安装在进样室时，相机无法收集样品的光学图像。按钮控制的样品支架保持位置校准。当样品支架在分析室内时，样品表面可以用这个图像进行光学导航。
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来源：科学十分钟
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